选择题：申请专利的发明创造在申请日前6个月内不丧失新颖性的情形包括（　）。A. 在中国政府主办的国际展览会上首次展出的 B. 在规定的学术. 技术会议上首次发表的

题目内容：

申请专利的发明创造在申请日前6个月内不丧失新颖性的情形包括（　）。

A. 在中国政府主办的国际展览会上首次展出的 B. 在规定的学术. 技术会议上首次发表的 C. 申请人在国内外学术刊物上首次发表的 D. 承担保密义务的他人未经申请人同意而泄露其内容的 E. 在中国政府承认的国际展览会上首次展出的

参考答案：
答案解析：

以下不属于知识产权的特征的是（　）。A. 法定垄断性 B. 地域性 C. 有形性 D. 时间性

以下不属于知识产权的特征的是（　）。A. 法定垄断性 B. 地域性 C. 有形性 D. 时间性

分类： 知识产权专业知识与实务(中级)  题型：选择题
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以下选项中属于受保护的集成电路布图设计专有权的保护条件是（）A.应具备一定思想 B.应包含一定操作方法 C.应具备独创性 D.应符合《集成电路布图设计保护

以下选项中属于受保护的集成电路布图设计专有权的保护条件是（）A.应具备一定思想 B.应包含一定操作方法 C.应具备独创性 D.应符合《集成电路布图设计保护

分类： 知识产权专业知识与实务(中级)  题型：选择题
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集成电路布图设计专有权的限制有（ ）A.合理利用 B.反向工程 C.权利穷竭 D.强制许可

集成电路布图设计专有权的限制有（ ）A.合理利用 B.反向工程 C.权利穷竭 D.强制许可

分类： 知识产权专业知识与实务(中级)  题型：选择题
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对于侵犯商业秘密，给商业秘密的权利人造成重大损失的，给与（ ）处罚。A.三年以下有期徒刑 B.三年以下有期徒刑，并处罚金 C.五年以上有期徒刑 D.五年以

对于侵犯商业秘密，给商业秘密的权利人造成重大损失的，给与（ ）处罚。A.三年以下有期徒刑 B.三年以下有期徒刑，并处罚金 C.五年以上有期徒刑 D.五年以

分类： 知识产权专业知识与实务(中级)  题型：选择题
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通常可采用的商业秘密管理模式包括(　　)。A.项目式管理 B.过程式管理 C.部门式管理 D.人员式管理 E.经验式管理

通常可采用的商业秘密管理模式包括(　　)。A.项目式管理 B.过程式管理 C.部门式管理 D.人员式管理 E.经验式管理

分类： 知识产权专业知识与实务(中级)  题型：选择题
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